光罩薄膜是極紫外 (EUV) 光刻工藝中的關(guān)鍵部件,，指的是在光罩上展開一層薄膜，然后機器在上面繪制要在晶圓上壓印的電路,，以免光罩受空氣中微塵或揮發(fā)性氣體的污染,，減少光掩模的損壞,。

目前,，光罩薄膜的供應(yīng)商主要是荷蘭ASML,、日本三井化學(xué)和韓國S&S Tech，韓國的EUV薄膜一直被外部廠商壟斷,。

作為晶圓代工大廠,，三星在2021就宣布自研EUV薄膜，并在今年初自主開發(fā)出透光率達88%的EUV薄膜,。

但是三星并不滿足于此,，因為目前市場上也有透光率達到90%或以上的EUV薄膜，一家是ASML,，另外一家是S&S Tech,。

三星半導(dǎo)體近期發(fā)布的一份招聘通知顯示,，正推動開發(fā)透光率為92%的EUV薄膜,，同時三星也將與外部機構(gòu)合作,，開發(fā)和評估由碳納米管和石墨烯制成的EUV薄膜,。

三星在晶圓代工領(lǐng)域的老對手臺積電在2019年開始，就使用自己研發(fā)的EUV薄膜,，并且在2021年時宣布,，其EUV薄膜的產(chǎn)能相比2019年將提高20倍。

有業(yè)內(nèi)人士表示,，三星推動EUV薄膜的開發(fā),，是為了更快的追趕上臺積電。